再審査の加速審査で期間を大幅短縮
経済部知的財産局は11月10日に特許再審査加速審査（AEPRe）方案及び発明及び意匠特許の実体審査延期措置の成果を発表し、加速と延期を並行して進める二つのエンジン戦略を強調し、産業界に柔軟な戦略構築ツールを提供する。知的財産局は113年9月1日から発明特許再審査加速審査（AEPRe）方案を試行し、出願人が一次審査の審査結果に基づいて的確な補正を行うことを奨励し、審査効率を向上させ、出願人と知的財産局の双方に利益をもたらす。統計によると、113年9月1日から115年9月30日までの25個月間に、合計87件のAEPRe申請を受理し、最初の通知を発出した84件の案件では、平均審査期間はわずか23.8天で、一般的な再審査案件の平均10.4個月に比べて効率が大幅に向上した。案件のうち97%が順調に承認を獲得し、医薬化学41%及び電子電気情報30%分野の企業が最も積極的に利用し、ハイテク産業の先機確保と侵害防御を支援する価値を示している。
実体審査延期の最長期間を5年に緩和
産業界の早期研究開発と市場様子見のための緩衝ニーズに対応するため、知的財産局は発明及び意匠特許出願の実体審査延期作業要点を改正・公布し、115年1月1日に正式に施行した。新制度では発明特許出願の実体審査延期の最長期限を従来の3年から5年に大幅に緩和し、意匠特許は1年から2年に緩和した。新制度施行後の効果は顕著で、115年9月までの発明特許出願の審査延期件数は443件に上昇し、平均延期期間は4.27年に延び、発明特許出願人の審査延期への強い需要を示し、5年への緩和政策は企業の国境を越えた特許の同期戦略構築ニーズを満たしている。
大手企業は半導体と映像通信に集中
審査延期を申請した主要指標企業には、米インテル、メディアテック、米フォード、蘭ASML及び台亜半導体などの国内外テクノロジー大手が含まれ、技術分野は映像通信（H04）及び半導体関連（H10）などの中核戦略産業に集中している。意匠特許出願の審査延期件数も153件に達し、平均延期期間は1.33年に上昇し、2年の延期枠は、市場様子見期間と研究開発の余裕を必要とする大多数の意匠特許出願人にとって、すでに十分な柔軟性があり、実際のニーズに合致していることを示している。
二つのエンジンで先行確保と研究開発の余裕を両立
知的財産局は、国家イノベーションのエンジンの後ろ盾として、各審査メカニズムの最適化を継続し、出願人はAEPRe方案を通じて迅速に特許権を取得でき、また実体審査延期を通じて、市場の不確実性に直面した際に、市場状況及び投資機会を評価するためのより十分な時間を確保できると表明した。今後知的財産局は法規制とデジタル化サービスの向上を継続し、産業界と連携してより競争力があり友好的な特許エコシステムを構築し、市場の先行確保と研究開発の余裕を両立し、友好的なイノベーションのウィンウィンを共に創出する。