再審查加速審查大幅縮短期間
經濟部智慧財產局於11月10日公布專利再審查加速審查（AEPRe）方案及發明及設計專利延緩實體審查措施成效，強調以加速與延緩並進的雙引擎策略，提供產業彈性布局工具。智慧局自113年9月1日起試行發明專利再審查加速審查（AEPRe）方案，鼓勵申請人依初審審查結果進行精準修正，以提升審查效率，達到申請人與智慧局雙贏。根據統計，自113年9月1日至115年9月30日的25個月期間，共收到87件AEPRe申請案，已發出首次通知的84件案件中，平均審查期間僅需23.8天，相較一般再審查案平均需時10.4個月，效率大幅提升。案件中高達97%順利獲得核准，以醫藥化工41%及電子電機資訊30%領域的企業最為積極利用，展現協助高科技產業搶佔先機、防禦侵權的價值。
延緩實體審查最長放寬至五年
為因應產業界對於早期研發與觀望市場的緩衝需求，智慧局修正發布發明及設計專利申請延緩實體審查作業要點，並於115年1月1日正式施行。新制將發明專利申請延緩實體審查之最長期限由原本的3年大幅放寬至5年，設計專利則由1年放寬至2年。新制施行後成效顯著，115年截至9月止，發明專利申請延緩審查件數攀升至443件，平均延緩期間拉長至4.27年，顯示發明專利申請人對於延緩審查的需求強烈，放寬至5年的政策滿足企業跨國專利同步布局的策略需求。
大廠集中半導體與影像通信
申請延緩審查的前幾大指標企業包含美商英特爾、聯發科、美商福特、荷蘭商ASML及台亞半導體等國內外科技大廠，技術領域多集中於影像通信（H04）及半導體相關（H10）等核心戰略產業。設計專利申請延緩審查件數亦有153件，平均延緩期間上升至1.33年，顯示2年的延緩額度，對於多數需要市場觀望期與研發緩衝的設計專利申請人而言，已具足夠彈性並符合實際需求。
雙引擎兼顧先占與研發緩衝
智慧局表示，作為國家創新引擎的後盾，將持續優化各項審查機制，申請人可透過AEPRe方案快速取得專利權，亦可透過延緩實體審查，在面對市場不確定性時，擁有更充裕的時間評估市場狀態及投資機會。未來智慧局將持續精進法規與數位化服務，與產業界攜手打造更具競爭力且友善的專利生態系，兼顧市場先占與研發緩衝，共創友善創新的雙贏局面。