再审查加速审查大幅缩短期间
经济部智慧财产局于11月10日公布专利再审查加速审查（AEPRe）方案及发明及设计专利延缓实体审查措施成效，强调以加速与延缓并进的双引擎策略，提供产业弹性布局工具。智慧局自113年9月1日起试行发明专利再审查加速审查（AEPRe）方案，鼓励申请人依初审审查结果进行精准修正，以提升审查效率，达到申请人与智慧局双赢。根据统计，自113年9月1日至115年9月30日的25个月期间，共收到87件AEPRe申请案，已发出首次通知的84件案件中，平均审查期间仅需23.8天，相较一般再审查案平均需时10.4个月，效率大幅提升。案件中高达97%顺利获得核准，以医药化工41%及电子电机资讯30%领域的企业最为积极利用，展现协助高科技产业抢占先机、防御侵权的价值。
延缓实体审查最长放宽至五年
为因应产业界对于早期研发与观望市场的缓冲需求，智慧局修正发布发明及设计专利申请延缓实体审查作业要点，并于115年1月1日正式施行。新制将发明专利申请延缓实体审查之最长期限由原本的3年大幅放宽至5年，设计专利则由1年放宽至2年。新制施行后成效显著，115年截至9月止，发明专利申请延缓审查件数攀升至443件，平均延缓期间拉长至4.27年，显示发明专利申请人对于延缓审查的需求强烈，放宽至5年的政策满足企业跨国专利同步布局的策略需求。
大厂集中半导体与影像通信
申请延缓审查的前几大指标企业包含美商英特尔、联发科、美商福特、荷兰商ASML及台亚半导体等国内外科技大厂，技术领域多集中于影像通信（H04）及半导体相关（H10）等核心战略产业。设计专利申请延缓审查件数亦有153件，平均延缓期间上升至1.33年，显示2年的延缓额度，对于多数需要市场观望期与研发缓冲的设计专利申请人而言，已具足够弹性并符合实际需求。
双引擎兼顾先占与研发缓冲
智慧局表示，作为国家创新引擎的后盾，将持续优化各项审查机制，申请人可透过AEPRe方案快速取得专利权，亦可透过延缓实体审查，在面对市场不确定性时，拥有更充裕的时间评估市场状态及投资机会。未来智慧局将持续精进法规与数字化服务，与产业界携手打造更具竞争力且友善的专利生态系，兼顾市场先占与研发缓冲，共创友善创新的双赢局面。